Рентгеновские измерения являются идеальным средством анализа тонких пленок при разработке и массовом производстве различных слоистых микро- и оптоэлектронных устройств. Оборудование, основанное на методах рентгеновского измерения XRD, XRR и XRF, доказало высокую эффективность благодаря быстрому выполнению неразрушающего, надежного и точного анализа для определения критически важных параметров тонких пленок, от ультратонких однослойных объектов до сложных многослойных структур.

Рентгеновское измерительное оборудование неотрывно следует за прогрессом в отрасли благодаря разработке новых программ измерения и технологий для анализа слоев, важных на всех стадиях – от исследований через выпуск пилотной партии и до полномасштабного автоматизированного производства полупроводниковых устройств.

Zetium

Axios FAST

2830 ZT

Epsilon 4

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

Zetium Axios FAST 2830 ZT Epsilon 4 X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

Элементное превосходство

Высокая производительность

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Быстрый и точный элементный анализ рядом с производственной линией

Versatile research & development XRD system

Versatile research, development & quality control XRD system

Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее
Анализируемые свойства
Исследования тонких пленок
Технология
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
X-ray Diffraction (XRD)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
小草青青在线观看免费